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SIGMAKOKI 長工作距離物鏡 EPLE-50 EPLE-20 長工作物鏡 / EPL-10 具有無限遠校正功能、齊焦距離為 45 mm 的長工作物鏡，可用于同軸觀察系統(tǒng)和激光引入光學系統(tǒng)。 除了對遠處物體進行顯微觀察外，它還可以用于聚焦可見激光。

SIGMAKOKI 西格瑪 長工作物鏡 EPL-5 EPL-10 長工作物鏡 / EPL-10 具有無限遠校正功能、齊焦距離為 45 mm 的長工作物鏡，可用于同軸觀察系統(tǒng)和激光引入光學系統(tǒng)。 除了對遠處物體進行顯微觀察外，它還可以用于聚焦可見激光。

SIGMAKOKI西格瑪 管透鏡 TL-NIR-1.0X TL-Y3 套筒透鏡 / TL-VIS-0.5X 用于可見觀察的 0.5x、f=100mm 管透鏡。

SIGMAKOKI西格瑪 管透鏡 TL-VIS-0.5X TL-Y4 套筒透鏡 / TL-VIS-0.5X 用于可見觀察的 0.5x、f=100mm 管透鏡。

SIGMAKOKI 半導體激光支架 LDH3-635-4.5 可見半導體激光支架/LDH3-405-3.5 本產品的鏡架（MHL-25.4S）內置有半導體激光器（LDU33）。激光束的方向可以精確調整。

SIGMAKOKI 半導體激光支架 LDH3-405-3.5 可見半導體激光支架/LDH3-405-3.5 本產品的鏡架（MHL-25.4S）內置有半導體激光器（LDU33）。激光束的方向可以精確調整。

SIGMAKOKI 波長物鏡 PFL-50-UV/NUV-AG-A 3 波長物鏡 (PFL-UV/NUV-AG) 該物鏡可用于3波長脈沖激光加工設備：YAG的2次諧波（532nm）、3次諧波（355nm）和4次諧波（266nm）。通過三個 YAG 波長實現(xiàn)高透射率。 它具有長工作距離 (WD) 并可校正場曲，使您能夠獲得一直到視場邊緣的自然觀察圖像。

日本 SIGMAKOKI 波長物鏡 PFL-10-UV/NUV-AG 3 波長物鏡 (PFL-UV/NUV-AG) 該物鏡可用于3波長脈沖激光加工設備：YAG的2次諧波（532nm）、3次諧波（355nm）和4次諧波（266nm）。通過三個 YAG 波長實現(xiàn)高透射率。 它具有長工作距離 (WD) 并可校正場曲，使您能夠獲得一直到視場邊緣的自然觀察圖像。

日本 SIGMAKOKI 西格瑪 反射物鏡 OBLR-20A 反射物鏡/OBLR-30A 該物鏡由反射鏡構成，不受玻璃折射率引起的色差影響，因此可在350nm至7μm的寬波長范圍內使用。 它可用于顯微光譜和半導體失效分析。

日本 SIGMAKOKI 西格瑪 反射物鏡 OBLR-30A 反射物鏡/OBLR-30A 該物鏡由反射鏡構成，不受玻璃折射率引起的色差影響，因此可在350nm至7μm的寬波長范圍內使用。 它可用于顯微光譜和半導體失效分析。